果能让李暮来指导,研究速度能至少提升3成。
可别觉得这很少。
在潜射d弹这种动辄以年为单位的研究项目上。
3成就是一两年,甚至是三四年的时间!
“调来京都啊!是您一个人来,还是有很多专家也想来?”吴有望眼睛微亮,急忙问道。
胡旭华想了想,道:
“不怕您笑话,是我们整个研究团队都想来。”
“您和李顾问认识了这么久,应该比我们更了解他的能力。”
“有他在,我们才能够更快的把项目搞成功!”
整个团队?
吴有望不由得呆了呆,算是明白胡旭华为什么说要跟李暮求情了。
毕竟连人带项目一起打包带走。
他要是波海造船厂的厂长。
怕是要气得直骂娘。
想到这里,吴有望迟疑道:
“其实吧,也没必要全部过来。”
“如果只是一部分人,我觉得没问题。”
“甚至我还可以帮帮忙,让你们在半导体研究所这边住下,更方便一下。”
他听到胡旭华想来京都的时候。
确实有心想要将人拉到半导体研究所来。
不过拉一个人没问题。
拉一个团队,还是有点怕的。
毕竟波海造船厂的厂长会不会骂李暮他不清楚,但绝对会跟他拼命。
“如果您能帮忙的话,那自然是最好的。”胡旭华脸上露出喜色,道。
……
办公室外。
走廊上。
就在吴有望和胡旭华聊得热火朝天的时候。
李暮和黄新华,也走到了实验室附近。
不过两人都没有进去。
而是在外面,说起了集成电路的研制情况。
黄新华道:
“根据你上次提供的方法,我们现在在光刻胶上取得了不小的进步。”
“引入交联结构和刚性分子结构这两步,也基本完成。”
“不过想要建立符合的树脂体系,还需要不少的时间,在双组分树脂和梯度分布设计上,有待进一步提高……”
他简单地说了说情况。
当然,除了李暮提供的方法之外。
他们也不是毫无突破。
比如通过提高后烘温度,从而促进树脂的较量反应,增强机械强度。又比如控制显影条件,减少显影液对树脂的过渡侵蚀,保护结构的完整性等。
通过调整光刻的工艺条件,也能够间接地改善机械强度和抗刻蚀性。
本章未完,请点击下一页继续阅读! 第4页 / 共9页