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第260章 国产光刻机重大成功

的物理性能,根本不需要改变就可以直接应用到130纳米。

45纳米制程已经是193纳米波长氟化氩激光光刻机的极限了,32纳米制程则遇到非常严重的光干涉物理现象。

当然在理论上,使用多重曝光技术,是可以完成32纳米制程的光刻,但理论上用32纳米制程,制造只有两千万晶体管的armv6处理器,需要的掩膜版多达一百多张,工序多达三百多道。

此时光刻的效率将严重降低,更别说三百多道工序,将使良品率降低到1‰以下,而造出一块32纳米制程的合格芯片,跟中大奖差不多,没有探索的意义了。

这些测试数据,小赵老师还是比较满意的,45纳米制程是极限。

而在商用上,130纳米制程还是可以保证效率和良品率的,但商用90纳米制程还需要探索。

屈庆麟总师眼光还是比较毒的,他对小赵老师说:“赵总,我们的光刻机是厉害,不过finfet半导体结构才是神,我在德州仪器的时候,新制程需要的攻关的技术可多了,可finfet技术能从一微米制程直接过渡到45纳米……”

屈庆麟伸出手指头边数边说:“一微米,800纳米,500纳米,350纳米……65纳米……45纳米,好家伙,制程提升了十代,半导体结构不变,赵总啊,你这是一招吃遍天下鲜,这finfet半导体结构可真神了!”

屈总师是海外归国人才,在ibm、德州仪器都待过不少年,湾岛出身,加州大学伯克利分校毕业,当然,能进这里,已经审查过很多次了,没有问题。

而赵国庆被屈总师刚才说的话,刺激的心虚,说实话,要是有人认真研究华国这些年在半导体上面的发展的话,他们可以发现,华国的半导体技术是跳跃式发展的。

一个finfet结构,在外人眼里,或许可以归结为走了狗屎运吧,不过在半导体从业人员眼里就不一样,小赵老师已经不是带着大家前进的火车头了,而是火箭头。

但赵国庆不以为意,他说:“这次193纳米步进式光刻机是重大的技术突破,不过国际上技术日新月异,我们也不能懈怠,后续102所光刻机研究室主要工作就是继续研发更稳定的工台系统,其次就是……双工台步进式光刻机……要提上日程!”

屈庆麟第一次听到双工台这个名字,字面上的意思是两個工台,至于什么概念他不知道,但从小赵老师嘴里说出来,肯定是了不得的东西,他疑惑的说:“赵所长,什么叫双工台?”

赵国庆说:“光刻

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